<label id="im0p4"></label>
<th id="im0p4"></th>

    <th id="im0p4"></th>
    1. <progress id="im0p4"></progress>
      <s id="im0p4"></s>
      <tbody id="im0p4"></tbody>
      <dd id="im0p4"></dd>
        <dd id="im0p4"></dd>

        磁控濺射卷繞鍍膜設備的優點

        2021-02-26  來自: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 瀏覽次數:395


          磁控濺射卷繞鍍膜設備,磁控濺射具有以下兩大優點:提高等離子密度,從而提高濺射速度;減少轟擊零件的電子數目,因而降低了基材因電子的升溫。

          因此,該技術在薄膜技術中占有主導地位。磁控濺射陰極的缺點:使用平面靶材,靶材在跑道區形成濺射溝道,這溝道一旦貫穿靶材,則整塊靶材即報廢,因而靶材的利用率只有20-30%。

          不過,目前為了避免這個缺點,很多靶材采用圓柱靶材形式,靶材利用率得以大幅度提高。

        關鍵詞: 磁控濺射卷繞鍍膜設備           

        肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司主要產品有:手機鍍膜機,光學鍍膜機,塑料鍍鋁機,PVD鍍膜機,光學鏡片鍍膜機,鈦金爐,多弧鍍膜機,pvd真空電鍍,離子鍍膜機,鍍鈦機,陶瓷鍍膜機,濺射鍍膜機,卷繞鍍膜機,真空鍍膜機,鍍膜機,離子鍍,真空電鍍機,真空鍍膜設備等系列。


        CopyRight ? 版權所有: 肇慶高要區恒譽真空技術有限公司 技術支持:誠一網絡 網站地圖 XML 備案號:粵ICP備18060884號-1


        掃一掃訪問移動端
        <label id="im0p4"></label>
        <th id="im0p4"></th>

        <th id="im0p4"></th>
        1. <progress id="im0p4"></progress>
          <s id="im0p4"></s>
          <tbody id="im0p4"></tbody>
          <dd id="im0p4"></dd>
            <dd id="im0p4"></dd>
            女人与物交zozo_强壮的公么征服我让我高潮_丰满人妻被公侵犯日本_又色又污又爽又黄的网站